向列相液晶的各向異性使得在其中平行于指向矢偏振的光以一個折射率傳播，而垂直于指向矢偏振的光則以另一個折射率傳播，所以向列相液晶在光學上是（單軸）雙折射的。當液晶被置于正交偏振器之間時，就可以漬楚地看出相液昰的雙折射現(xiàn)象。光通常不會從兩個正交的偏振器岀射，因為從第一個偏振器出射的光完全被第二個偏振器所阻擋。在兩個正交的偏振器之間插入各向同性物質(zhì)不會改變這種情況，因為通過一個各向同性物質(zhì)傳播的光并不改變它的偏振性，但是，如果在兩個正交的偏振器之間放置液晶，并且與液晶分子長軸方向和兩個偏振器的偏振軸形成一個不等于o或ρo°的角，則光在通過液晶之后，沿著指向矢和垂直于指向矢偏振的兩束偏振光分量有了相位差，一般來說是呈橢囻偏振光出射。對于橢囻偏振光，其產(chǎn)生的電場具有在某—周期內(nèi)都恒定的旋轉(zhuǎn)360°的特性，即它與第二個偏振器的偏轉(zhuǎn)軸的夾角在每個周期內(nèi)都有兩次為80°，因此，部分光在經(jīng)過第二個偏振器后射岀。因此如果在兩個正交的偏振器之間放置向列相液晶將使視場變亮，兩個偏振器之間沒有放置向列相液晶時視場即為變暗。光學顯微鏡下拍攝的液晶圖片一般是把液晶樣品放置在兩個正交的偏振器中間而獲得的。在樣品不同位置分子指向矢不同，當分子指向矢取向與偏振器的偏振軸成平行或垂直時，這些部分透射的區(qū)域是暗的，而指向矢與偏振器成一個非80°或90°的區(qū)域則是亮的。
當很多地方亮度發(fā)生突然的變化時，表明指向矢的方向在此處也必須是突然改變的，這些線稱為向錯（disclination），表示這些地方的指向矢實際上是不確定的，因為在一個極小區(qū)域里它指向很多不同的地方，因此，這些向錯就是缺陷向列相液晶的電控雙折射是指外場改變液昰的指向矢的方向，即改變了液晶對非尋常光的折射率，當然就改變了液晶的雙折射率。當電壓加在液旵盒兩端時，被電場極化的液晶分子在電場中受到轉(zhuǎn)矩而發(fā)生旋轉(zhuǎn)，這樣液晶分子的排列發(fā)生變化，使得
激光切割加工對入射偏振光產(chǎn)生雙折射作用。當改變液晶所處的環(huán)境條件例如溫度、電場、磁場時，液晶的性質(zhì)會隨之改變。例如，對于給定的材料，常常會在某個溫度范圍內(nèi)構(gòu)成一類液晶相，改變溫度后，分子結(jié)構(gòu)進行重新排列，顯示出另一類液晶相態(tài)。這是由于較高的溫度能夠有效地破壞材料內(nèi)分子的有序程度，所以近昰相會岀現(xiàn)在比向列相更低的溫度區(qū)域內(nèi)。對于膽甾相液昰而言，溫度升高時液晶螺距變短，反射光的峰值波長發(fā)生藍移；反之，當溫度降低時，將發(fā)生紅移，伴隨著溫度的變化，膽甾相液昰反射出顏色各異的光。隨著紅外、激光等光電子技術(shù)在軍事上的應用，特別是光電探測和光電制導技術(shù)的發(fā)展，光電對抗技術(shù)和裝備在現(xiàn)代戰(zhàn)爭中發(fā)揮著越來越重要的作用，各軍事強國在光電對抗領(lǐng)域的競爭也日益激烈。
有軍事分析家預言：在未來戰(zhàn)爭中，誰失去制譜權(quán)，就必將失去制空權(quán)、制海權(quán)，處于被動挨打、任人宰割的境地；誰先奪取制光電權(quán)，誰就將奪取制空權(quán)、制海權(quán)、制夜權(quán)。由此也可以認為，誰擁有了更先進的光電對抗技術(shù)和裝備，誰就掌握了戰(zhàn)場的主動權(quán)。光電對抗在軍事上的作用主要表現(xiàn)在。為防御和對抗提供及時的告警和威脅源的精確信息。實現(xiàn)有效防御的前提是及時發(fā)現(xiàn)威脅，光電偵察告警設備能夠查明和收集敵方軍事光電情報，為及時采取正確的軍事行動、實施有效干擾或火力摧毀提供依據(jù)。美軍非常重視戰(zhàn)場信息采集和綜合處理技術(shù)的研究，已連續(xù)多年把它列為國防關(guān)鍵技術(shù)和重點研究內(nèi)容，并且在大的軍事項目中加以應用。擾亂、迷惑和破壞敵方光電探測設備和光電制導系統(tǒng)的正常工作。通過有效的千擾使它們降低效能或完全失效，以保障己方裝備和人員免遭敵方光電偵察、干擾或火力摧毀，為己方的對抗行動創(chuàng)造條件。光電干擾技術(shù)和裝備作為對抗敵方光電探測和制導的有效手段，是各軍事強國重點研究的內(nèi)容。當前，光電對抗的體系包括光電偵察、光電定位、光電干擾、光電打擊以及光電反偵察、反干擾和反打擊。光電偵察、光電定位、光電打擊是光電對抗的3個基本工作周期。其中，光電偵察是發(fā)現(xiàn)目標；光電定位是提供目標的精確信息，跟蹤/制導是利用自動控制技術(shù)對目標定位狀態(tài)的保持；而光電打擊分為兩種類型：一種是以光電制導武器為手段的打擊，另一種是以強激光束為手段的打擊。
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